沿革 History

沿革

平成 4年 10月 埼玉県戸田市大字新曽に資本金350万円にて 有限会社 協和テックを設立
平成 4年 11月 埼玉県戸田市笹目南町に本社及び本社工場を移設
平成 4年 11月 本社工場移設と並行してK全判プリントラミネート機を設置
平成 4年 11月 株式会社浜松製作所と共同研究にて新UVコーターシステムの研究開発に着手
平成 5年 6月 紙面コーティング方法及びコーティング装置の特許申請
平成 5年 7月 デザインコーティング用紙の特許申請
平成 5年 11月 新UVコーターシステムのラミコートLC機1号機導入
平成 6年 7月 ホログラムの製造方法及び製造装置の特許申請
平成 6年 8月 企業拡大の強化目的資本金1,000万円に増資
平成 6年 10月 株式会社協和テックに組織変更する
平成 6年 12月 UVエンボス加工の製造方法及び加工装置の特許申請
平成 7年 6月 四六全判プレコート用プリントラミネート機を設置
平成 8年 2月 アルミニウム薄膜積層紙及び製造方法の特許申請
平成 9年 10月 業務拡大化のための埼玉県蕨市錦町に本社及び本社工場を移設
平成 9年 11月 四六全判水性接着剤プリントラミネート機設置
平成10年 9月 枚葉印刷紙面の艶出し装置特許登録(特許2098895号)
平成11年 3月 LCコート商標登録
平成11年 6月 LCホログラム・エンボス加工製品についてジェイティメタリック印刷株式会社
(現 株式会社トッパンスプリント)と業務提携する
平成11年 12月 ”紙面加工装置”特許登録(第3015267号)
平成12年 1月 埼玉県中小企業の創造的事業活動の研究開発に認定される(工振第1031号)
平成12年 3月 ラミコートLC2号機増設
平成13年 12月 B全判ロールコーター新設
平成14年 4月 UV・LCコート、LCコート、LCホロ商標登録
平成14年 8月 自社本社工場を埼玉県戸田市美女木に移設
平成15年 1月 埼玉県特定基盤的技術の高度化等に関する計画が承認される(産創第1389号)
平成16年 1月 ”簡易ポケット”特許登録(第3512747号)
平成16年 4月 ラミコートLC機1号機コーター部全面改良
平成16年 9月 四六全判水性接着剤プリントラミネート機増設
平成16年 10月 埼玉県指定彩の国工場に指定される
平成17年 1月 UV照射付シリンダー式スクリーン印刷機導入
平成17年 3月 印刷物のコーティングにレンチキュラー加工方法の開発について
埼玉県”特許基盤的技術の高度化等に関する計画”(地産1492号)に承認される
平成17年 7月 ”紙面コーティング方法及びコーティング装置”特許登録(第3695948号)
平成17年 12月 資本金を2,000万円に増資
平成18年 2月 新型ラミコートLC機3号機増設
平成18年 3月 A全判シリンダー箔押機(SBD型)導入
平成18年 11月 生産管理システム導入
平成19年 3月 ウェッブ式ラミコートLC(LCW)開発1号機新設
平成19年 4月 自動欠点検出器付片面検査巻返機導入
平成20年 2月 ウェッブ式ラミコートLC(LCW)機用コロナ放電処理機導入
平成22年 2月 ウェッブ式ラミコートLC(LCW)2号機導入
平成22年 5月 「LCW」商標登録(第5321847号)
平成23年 6月 超光沢UVリバースコート機導入
平成24年 11月 埼玉県渋澤栄一ビジネス大賞テクノロジー部門特別賞受賞
平成24年 3月 消えないホログラムの製造方法特許登録(第4942685号)
令和元年 9月 第18回印刷産業環境優良工場表彰で日本印刷産業連合会奨励賞を受賞
令和 3年  2月 ウエブテック社 ラミネート検査装置SENSAI 2台導入
令和 3年  5月 抗菌LCW SIAA取得 SIAAコード:JP0122964X0001G
令和 3年  8月 抗菌LC SIAA取得 SIAAコード:JP0122964X0002H
令和 5年  8月 全自動平圧箔押機 Easymatrix 106 FC型 導入
令和 5年  9月 四六全判水性接着剤プリントラミネート機(PP5号機) 増設
令和 5年 12月 四六全判プレコート用プリントラミネート機(PP6号機) 増設
令和 6年  2月 ウエブテック社 ラミネート検査装置SENSAI 2台導入
令和 7年  2月 ウエブテック社 ラミネート検査装置SENSAI 1台導入